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發(fā)布日期:2021-10-14 作者: 點(diǎn)擊:4735

01電鍍?cè)牧瞎に囘^程。

1)加熱蒸發(fā)工藝。

該過程是由固相或液相向氣相轉(zhuǎn)變,每種物質(zhì)在不同溫度下具有不同的飽和氣壓。

蒸氣發(fā)源-基板和蒸氣中的原子或分子的傳輸過程。

這一過程中,氣化原子或分子與殘留氣體分子發(fā)生碰撞,碰撞與蒸發(fā)原子、分子和蒸氣發(fā)源到底板距離等因素有關(guān)。

使原子或分子在基底表面上的沉積過程。

這就是水蒸氣的凝聚成核,核生長形成連續(xù)膜,氣相變?yōu)楣腆w。

以上工藝必須在空氣稀薄的真空環(huán)境中(10-2~1pa)進(jìn)行,否則蒸發(fā)的微粒會(huì)與空氣分子發(fā)生碰撞,造成膜污染甚至形成氧化物,或蒸發(fā)源被氧化燒壞等。

真空鍍膜技術(shù)的細(xì)節(jié)。

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(a)蒸鍍金屬膜。

對(duì)于金屬膜層的制備,一般采用真空電鍍法。目前較為常用的金屬膜層有鋁、錫、銦、銦、錫、鉻等。一些金屬膜在應(yīng)用中的差別主要體現(xiàn)在外觀和導(dǎo)電性能兩方面。

佛山市優(yōu)捷化工有限公司使用這些產(chǎn)品中的銦、錫、銦、錫合金主要用在手機(jī)、電腦邊框、按壓等電子產(chǎn)品中,這類金屬薄膜不僅能賦予基材金屬外觀,而且還具有一些其它金屬膜所沒有的延展性。這些金屬的活動(dòng)性較差,不易導(dǎo)電,對(duì)電子產(chǎn)品的信號(hào)影響較小,也是它的主要應(yīng)用原因之一,所以一般也稱為不導(dǎo)電鍍膜。鉻金屬薄膜外觀黑,金屬質(zhì)感強(qiáng),并有較好的硬度,因而受到一些裝飾及玩具制造商的青睞。

與其它一些金屬膜相比,應(yīng)用最為廣泛的鋁膜,如鏡面行業(yè)用鋁代銀、集成電路用鋁刻蝕導(dǎo)線、聚酯薄膜鍍鋁制成電容器;滌綸聚酯薄膜鍍鋁制做。軟包有防紫外輻射,日常生活中常見的玩具、化妝品的外包裝和一些裝飾品。

蒸鍍鋁膜可以選擇間歇蒸發(fā)真空鍍膜,也可以選擇半連續(xù)真空鍍膜機(jī)。它的蒸發(fā)源可以作為電阻源,電子束源,也可以選擇感應(yīng)加熱蒸發(fā)源,根據(jù)蒸鍍材料的具體要求,也可以選擇感應(yīng)加熱蒸發(fā)源。

鍍鋁膜的工藝參數(shù),主要包括鍍室壓力、沉積速度、基板溫度、蒸發(fā)距離等。若考慮到膜片襯底上分布的均勻性,則應(yīng)注意蒸發(fā)源與襯底的相對(duì)位置、工件架的運(yùn)動(dòng)狀況等因素。如選擇電子束蒸發(fā)源制取鋁層,其典型的主要工藝參數(shù)可以選擇:鍍膜室內(nèi)工作壓力2.6*10-4Pa,蒸發(fā)速率2~2.5nm/s,基片溫度20℃,蒸距450mm,電子束電壓為9kV,電流為0.2A。


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